硫酸陽極氧化（導讀：什么是硫酸陽極氧化？ http://szyt-hosp.cn/Article/lvyangjiyanghua_lius_1.html）

  鋁的硫酸陽極氧化方法有：純硫酸體系陽極氧化、硬質(zhì)陽極氧化、混合體系的硫酸陽極氧化等。

  硫酸陽極氧化膜成長機理

  關于鋁陽極氧化膜形成機理，迄今國內(nèi)外己有大量研究，并極大地促進了鋁陽極氧化理論的發(fā)展。在直流陽極氧化中一般認為:在硫酸電解液中陽極氧化時，作為陽極的鋁制品，在陽極化初始的短暫時間內(nèi)，其表面受到均勻氧化，生成極薄而有非常致密的膜，由于硫酸溶液的作用，膜的最弱點(如晶界，雜質(zhì)密集點，晶格缺陷或結構變形處)發(fā)生局部溶解，而出現(xiàn)大量孔隙，即原生氧化中心，使基體金屬能與進入孔隙的電解液接觸，電流也因此得以繼續(xù)傳導，新生成的氧離子則用來氧化新的金屬，并以孔底為中心而展開，最后匯合，在舊膜與金屬之間形成一層新膜，使得局部溶解的舊膜如同得到“修補”似的。隨著陽極氧化時間的延長，膜的不斷溶解或修補，陽極氧化反應得以向縱深發(fā)展，從而使制品表面生成薄而致密的內(nèi)層和厚而多孔的外層所組成的陽極氧化膜。鋁陽極氧化過程中出現(xiàn)的氧化電位階躍現(xiàn)象，是由陽極氧化膜阻擋層的增厚引起的，阻擋層首先在孔隙面上生成，當達到一定厚度之后向孔隙面以外的面上鋪展，即在多孔層的生長過程中，阻擋層的厚度也在逐漸的增厚，只是當達到二定厚度之后才保持恒定。其電解時的電極反應為：

 

  在外層因電解液和膜層表面反應而發(fā)生部分溶解：

 

  其內(nèi)層(介電層、活性層)厚度至氧化結束基本都不變，位置卻不斷向深處推移；而在一定的陽極氧化時間內(nèi)隨時間而增厚。隨著膜的厚度增加，膜的生長速度降低，當膜的生成速度和膜的溶解速度相等時，膜的厚度不再增加，成為一個定值。此時阻擋層的朝外一面在電解液的作用下疏松化，在其中形成孔隙，在被電解液填充的孔隙中又進一步形成新的阻擋層。因此在陽極氧化過程中包括了兩種反應過程，一種是鋁表面氧化生成氧化鋁膜的電化學過程;另一種是陽極氧化膜不斷被電解液溶解的化學溶解過程。

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